镓酸钕(NdGaO3)晶体基片
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NdGaO3是近十年中发展起来的新型基片,主要用作高温超导体(如YBCO)及磁性材料的外延薄膜生长用基片。由于NdGaO3与YBCO的晶格失配很小(~0.27%),且无结构相变,在NdGaO3基片上可外延生长质量良好的薄膜。
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技术参数

 晶体结构

 正交

 晶体参数Å

 a=5.43, b=5.50, c=7.71

 熔点℃

 1600

 密度g/cm3

 7.57

 介电常数

 25

 生长方法

 提拉法

 硬度:

 5.9(Mohs)

产品规格

晶向:

公差:+/-0.5度

10x10x0.5mm, 10x5x0.5mm,5x3x0.5mm

单抛,Ra<5A

注:也可根据客户需求定制相应的尺寸和大小

标准包装

1000级超净室,100级超净袋封装

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